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Máquina de recubrimiento de plasma de vacío del sistema de vapor de plasma

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Descripción general

La máquina de recubrimiento de plasma de vacío del sistema de evaporación al vacío de plasma utiliza una fuente de alimentación de alta frecuencia y alta tensión para producir plasma en un cierto ambiente de vacío o en una atmósfera de gas específica. A través de iones de alta energía que impactan en la superficie del material, se eliminan los contaminantes e impurezas de la superficie, se ruge la superficie y se aumenta la superficie. Por lo tanto, se cambian las propiedades químicas de la superficie del material y se mejoran sus propiedades hidrofílicas, cohesivas y resistentes al desgaste. Después de depositar el adhesivo (o agente de acoplamiento, antiadhesivo) en la superficie del sustrato (silicio de silicio, arsénico de galio, Niobato de litio, vidrio, zafiro, obleas y otros materiales), el compuesto con silicona como cuerpo principal se puede reaccionar a través del calentamiento. Logró convertir la superficie del sustrato

Detalles del producto

Máquina de recubrimiento de plasma de vacío del sistema de vapor de plasma

Se utiliza una fuente de alimentación de alta frecuencia y alta tensión para producir plasma en un cierto ambiente de vacío o en una atmósfera de gas específica. A través de iones de alta energía que impactan en la superficie del material, se eliminan los contaminantes e impurezas de la superficie, se ruge la superficie y se aumenta la superficie. Por lo tanto, se cambian las propiedades químicas de la superficie del material y se mejoran sus propiedades hidrofílicas, cohesivas y resistentes al desgaste. Después de depositar el adhesivo (o agente de acoplamiento, antiadhesivo) en la superficie del sustrato (silicio de silicio, arsénico de galio, Niobato de litio, vidrio, zafiro, obleas y otros materiales), el compuesto con silicona como cuerpo principal se puede reaccionar a través del calentamiento. Ha cambiado con éxito la superficie del sustrato de hidrofílica a hidrofóbica, y su base hidrofóbica se puede combinar bien con el fotorresistente y desempeñar el papel de agente de acoplamiento.

Función de la máquina de recubrimiento de plasma de vacío del sistema de vapor de plasma


Frecuencia de ocurrencia del sistema de alimentación: 13,56m

Tipo de fuente de alimentación: fuente de alimentación de radiofrecuencia, potencia ajustable (incluido el emparejador automático)

Número de capas de la placa de electrodo: 2 capas (o capas)


Modo de disposición de la placa de electrodo: disposición horizontal / disposición vertical

Distancia entre las placas de electrodos: 150 mm (se puede especificar)

Material de la cavidad: la caja interior está hecha de acero inoxidable 316L

Rango de temperatura: temperatura ambiente - 150 ° C

Grado de vacío: ≤ 30pa

Bomba de vacío: bomba de vacío sin aceite

Agente de acoplamiento: sistema de entrada de agente de acoplamiento opcional de 1 - 2 vías

Vía aérea: 1 - 5 opcional

Función de limpieza: el tiempo de limpieza por plasma, el número de veces, la Potencia de alimentación, etc. se pueden ajustar.

Sistema de recubrimiento: tiempo de recubrimiento, número de ciclos, proceso de recubrimiento editable

Interfaz de operación: interfaz hombre - máquina / ordenador Industrial

Función de automatización: se puede optar por sistemas inteligentes como mes y GEM en línea


Las máquinas de limpieza por plasma se utilizan para limpiar dispositivos ópticos, componentes electrónicos, dispositivos láser, sustratos de recubrimiento, chips para mejorar la adherencia y la fuerza de los adhesivos utilizados para unir elementos ópticos, fibras ópticas, materiales biomédicos, materiales aeroespaciales, etc. eliminar los óxidos en la superficie de los materiales metálicos para activar la superficie de materiales como vidrio, plástico, cerámica y polímeros altos, mejorar su adherencia superficial, infiltración, modificación de la superficie de materiales poliméricos compatibles, etc.