Máquina de vapor de tratamiento hidrofóbico máquina de recubrimiento al vacío de agente de acoplamiento controlado por el programa

NegociableActualización en05/16

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Descripción general

La máquina de recubrimiento al vacío del agente de acoplamiento controlado por el programa de la máquina de vapor de tratamiento hidrofóbico puede recubrir uniformemente una capa de agente de acoplamiento (hmds) en la superficie de la silicio y el sustrato controlando parámetros como la temperatura de trabajo, el tiempo de procesamiento y el tiempo de retención durante el proceso, lo que cambia el ángulo de contacto del sustrato, reduce la cantidad de fotorresistente y mejora la adherencia del fotorresistente a la silicio.

Detalles del producto

El papel de la máquina de recubrimiento al vacío del agente de acoplamiento controlado por el programa de la máquina de vapor de tratamiento hidrofóbico

A través de la temperatura de trabajo del proceso de tratamiento, el tiempo de tratamiento, el tiempo de retención durante el tratamientoEl control de otros parámetros puede recubrir uniformemente una capa de agente de acoplamiento en la superficie de las pastillas de silicio y los sustratos.HMDS).cambiar了SustratodeEl ángulo de contacto reduce la cantidad de fotorresistente y mejora la adherencia del fotorresistente a las pastillas de silicio.

Seguir las normas y normas nacionales, industriales y locales pertinentes

Cumplir con los criterios:Las normas del sistema de calidad ISO9001 y las normas nacionales pertinentes, las normas industriales y las especificaciones de los fabricantes de equipos.

Función de la máquina de recubrimiento al vacío del agente de acoplamiento controlado por el programa de la máquina de vapor de tratamiento hidrofóbico

número de serie	función	Parámetros técnicos
1.	tamaño	Tamaño de la cavidad interna (profundidad)* ancho * alto):≥ 300 ×300 ×300 (mm), disponible en varios tamaños，El dispositivo adopta un diseño integrado pequeño y se puede colocar sobre la Mesa..
2.	material	La caja exterior se pulveriza con láminas laminadas en frío de alta calidad, y la caja interior se pulveriza con láminas laminadas en frío. Acero inoxidable de grado 316L，Número de capas de estantería≥ 2capa.
3.	Rango de temperatura	RT+10-200℃，Volatilidad≤ 0,5.
4.	Limpieza	class 100， El Equipo utiliza materiales libres de polvo, adecuados para purificar el medio ambiente en la Sala de litografía de nivel 100..
5.	Fuente de alimentación y potencia total	AC 220V ± 10% / 50HZ，Potencia total:2.5KW.
6.	Instrumentos de control	Interfaz hombre - máquina，ControlableAdición de líquido medicinal hmdstiempo.
7.	Bomba de vacío	Bomba de vacío anti - aceite o sin bomba de aceite,真空度：≤ 1 Apoyo，
8.	Dispositivo de protección	Protección contra sobretemperatura, protección contra fugas eléctricas, etc..
9.	Alarma de filtración de hmds	equipado conDispositivo de monitoreo en tiempo real hmds, con función de alerta de alarma.

El sistema no solo es adecuado para la fabricación tradicional de circuitos integrados a base de silicio, sino que también se aplica en semiconductores de tercera generación (como sic, gan, Encapsulamiento (tsv, Fan - out), así como áreas emergentes como la gran transferencia de micro - led, suLa capacidad de promoción de la adhesión también muestra un gran potencial. Los tratamientos de superficie estables son estosLa piedra angular de la industrialización de la tecnología.Adecuado para fábricas de obleas semiconductoras (foundry), departamentos de investigación y desarrollo de procesos de empresas de diseño de circuitos integrados, empresas de fabricación de microelectromes, producción de máscaras, fabricantes de dispositivos de semiconductores compuestos (como gan, sic), institutos de investigación científica y laboratorios de micro - nanoprocesamiento en universidades.Fabricantes de envases (ap), fabricantes led, empresas de investigación y desarrollo de chips microfluídicos, etc.

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