Litografía de escritura directa láser DMD

NegociableActualización en02/01

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Naturaleza del fabricante: Productores

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Descripción general

La Litografía sin máscara $r $n $r $n es un dispositivo de tecnología de litografía que no requiere el uso de una versión tradicional de máscara física para transferir el patrón del circuito, sino que escanea y expone directamente el material sensible a la luz a través de un haz de alta precisión controlado por computadora para formar el patrón fino necesario. En la actualidad, se encuentra en la fabricación microelectrónica, el micro - nanoprocesamiento, MEMS、LED、 Los biochips y otros campos tienen una amplia gama de aplicaciones.

Detalles del producto

Zml10a es un innovador equipo de litografía sin máscara a nivel de escritorio, diseñado especialmente para las necesidades de mecanizado micro y Nano eficiente y preciso. El Equipo utiliza una fuente de Luz LED de alta potencia y alta uniformidad, combinada con la tecnología dlp, para realizar la función de exposición guiada por luz amarilla o verde, logrando realmente "lo que se ve es lo que se obtiene", lo que mejora en gran medida la conveniencia de la operación y la controlabilidad del proceso. Su estructura de circuito óptico y su plataforma de desplazamiento del Motor lineal de alta precisión garantizan la precisión de exposición y la capacidad de posicionamiento repetido, mientras que está equipada con un sistema de enfoque automático de campo por campo de Cámara cc, lo que optimiza aún más la calidad de la imagen y la estabilidad del proceso. El dispositivo admite la función de conmutación de lentes eléctricas y enfoque activo láser, y puede responder con flexibilidad a las necesidades de diferentes escenarios de aplicación. Su diseño compacto de miniaturización de escritorio no solo ahorra espacio, sino que también facilita su despliegue en laboratorios o entornos de producción. Además, zml10a está equipado con una interfaz de software intuitiva y fácil de usar, lo que reduce drásticamente el umbral de operación y puede comenzar rápidamente incluso para principiantes. Ya sea la preparación de estructuras micro y nanoestructuradas complejas como estructuras de metamateriales, patrones de electrodos o chips microfluídicos, zml10a puede proporcionar un soporte confiable y es una opción ideal para investigadores científicos y usuarios industriales.

· Características técnicas

▲ miniaturización del escritorio

▲ fuente de luz de grabado LED de alta potencia y alta uniformidad

▲ la luz amarilla / verde guía la exposición, lo que se ve es lo que se obtiene

▲ enfoque automático de la imagen campo por campo de la Cámara CC

▲ Mesa de desplazamiento de Motor lineal de alta precisión

▲ interfaz de software fácil de operar

· El camino de luz está lejos del Mapa estructural

DMD激光直写光刻机

· Indicadores principales

Indicadores técnicos clave
Longitud de onda central de la fuente de luz ultravioleta	de 405 nm
Uniformidad de la exposición	90%
Ancho mínimo de línea característico	0.5um
Área de exposición de un solo campo de escritura	0.6 * 0.4mm (@0.5um)
Tasa de grabado	3mm^2/min (@0.5um)
configuración	Edición básica	Edición Profesional
Fuente de luz	LED de luz fuerte: 405 nm
Chip DMD	DLP6500
Área de exposición de un solo campo	0.6 * 0.4mm (@0.5um), 1.2 * 0.8mm (@0.8um) 2.4 * 1.6mm (@1.5um), 12 * 8mm (@8um)
cámara	Cámara microscópica de gran objetivo (medición de tamaño de soporte)
Precisión de grabado	1um	0.7um
Velocidad de grabado	3mm²/min (@0.5um)	20mm²/min (@0.5um)
Plataforma deportiva	Motor lineal de alta precisión (precisión de posicionamiento repetida ± 0,5um) mecanismo de nivelación, mesa giratoria manual	Motor lineal de alta precisión (precisión de posicionamiento repetida ± 0,5 um) mecanismo de nivelación, mesa giratoria eléctrica
Convertidor de lentes	Cambio manual de lente	Cambio de objetivo eléctrico
Grupo de modos de enfoque	Enfoque automático de la imagen CC	Enfoque activo láser
Tamaño de las pastillas de silicio de soporte	4 pulgadas	8 pulgadas

Casos de aplicación

DMD激光直写光刻机

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