30A ~ 15000APulso DCDescarga eléctricaFuente(fuente de alimentación de corriente continua) especificaciones de parámetros
Especificaciones de los parámetros generales de la fuente de alimentación de pulso de corriente continua
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Forma de onda de salida
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Pulso de Onda cuadrada o corriente continua
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Frecuencia de pulso
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5 a 5000Hz
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Ciclo de trabajo de pulso
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0 a 100%
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Tiempo de conmutación de pulso positivo e inverso
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De 0 a 9999ms
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Duración de la corriente en cada grupo
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1S≤t1, t2 ~ t10≤9999S
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Tensión de salida
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0-100V
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Salida de corriente media máxima
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0-5000A
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Corriente máxima máxima máxima
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30A a 15000A
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Fuente de alimentación de pulso de corriente continuacaracterística
1. el ciclo produce diez grupos de formas de onda de corriente con diferentes parámetros, y cada grupo de corrientes se puede seleccionar arbitrariamente en formas de onda como dc, pulso único, doble pulso o conmutación de corriente continua.
2. la duración de cada grupo de corriente se puede seleccionar entre 1s y 9999s, lo que facilita el control del espesor del recubrimiento obtenido por cada grupo de corriente.
3. durante el funcionamiento alternativo de cada grupo de corrientes de pulso, la corriente media siempre se mantiene sin cambios para garantizar que la corriente máxima de cada grupo de impulsos varía cuando se utilizan diferentes ciclos de trabajo.
Alcance de la aplicación:
Cuando la fuente de alimentación de pulso se utiliza para el chapado en oro, plata, níquel, estaño y aleación, puede mejorar significativamente la funcionalidad del recubrimiento; Cuando se utiliza para la galvanoplastia protectora y decorativa (como el oro decorativo), el color de la galvanoplastia es uniforme, el brillo es bueno y la resistencia a la corrosión es fuerte;
Cuando la fuente de alimentación de pulso se utiliza para la purificación de metales preciosos, la pureza de los metales preciosos es mayor. La fuente de alimentación de pulso es mejor que la fuente de alimentación de galvanoplastia tradicional y es la dirección de desarrollo de la fuente de alimentación de galvanoplastia.
La fuente de alimentación de pulso de corriente continua es más detallada y tiene una mejor limpieza que la galvanoplastia de la fuente de alimentación de pulso único. La disolución anódica del pulso inverso de la fuente de alimentación de doble pulso hace que la concentración de iones metálicos en la superficie del cátodo aumente rápidamente, lo que favorece el uso de una alta densidad de corriente de pulso en los ciclos de cátodo posteriores, por lo que el recubrimiento es denso, brillante y de baja permeabilidad;
La desprendimiento anódica del pulso inverso de la fuente de alimentación de doble pulso reduce en gran medida la adherencia de impurezas orgánicas (incluido el brillante) en el recubrimiento, por lo que el recubrimiento tiene una alta pureza y una fuerte resistencia al cambio de color.
La fuente de alimentación de pulso de corriente continua es adecuada para la galvanoplastia de oro, plata, metales raros, níquel, zinc, estaño, cromo y aleaciones; Fundición eléctrica de cobre, níquel, etc.; Aplicación de energía de condensadores electroliticos; Anodización de aluminio, titanio y otros productos; Pulido electrolítico de piezas de precisión.